光学微纳测量技术（Optical Micro-and Nanometrology) 主要研究基于自动对焦显微成像技术、移焦分层成像技术、过焦成像测量技术、白光干涉技术、光学散射超分辨率成像技术，实现对复杂结构三维形貌、纹理、表面粗糙等几何参数的微纳米级精度测量。

    研究内容涉及以下几个方面：

1. 移焦（focus variation)、过焦(through focus)分层扫描微纳测量技术，

2. 自动对焦扫描探针测量技术，

3. 白光偏振干涉测量技术，

4. 微纳米精密位移干涉测量技术。